RITG142直線加速器質(zhì)控軟件 返回列表頁(yè)

RITG142直線加速器質(zhì)控軟件詳細(xì)介紹：

TG-142 和 MPPG 8.b 中推薦的每個(gè)基于圖像的測(cè)試的單一供應(yīng)商解決方案。使用 EPID 和 RITG142 軟件，自信而輕松地對(duì)直線加速器進(jìn)行全面的質(zhì)量保證。

RITG142質(zhì)控軟件，TG142分析軟件是機(jī)器 QA、MLC QA、成像 QA 以及數(shù)據(jù)跟蹤和趨勢(shì)分析的一體化解決方案，您需要符合 TG-142 和醫(yī)學(xué)物理學(xué)實(shí)用指南 （MPPG） 8.b 的全面 LINAC QA。此外，成像 QA 模型通過易于使用的跟蹤和趨勢(shì)分析功能自動(dòng)評(píng)分。

機(jī)器質(zhì)量保證

RITG142直線加速器質(zhì)控軟件LINAC 的每日、每月和年度機(jī)器 QA

增強(qiáng)型 3D Winston-Lutz（等中心優(yōu)化）和 Virtual Star Shot*

自動(dòng)處理一組 EPID Winston-Lutz 圖像，以快速準(zhǔn)確地測(cè)量等中心位置。RIT 版本的此測(cè)試允許您使用 3 到 16 張圖像，并為球設(shè)置和圍繞等中心擺動(dòng)提供誤差估計(jì)。增加的角度靈活性使您能夠模擬更多臨床相關(guān)的角度，以確定特定治療配置下的等中心。*美國(guó)zhun利9192784、JP Patent 6009705、CA Patent 2918045和其他正在申請(qǐng)的國(guó)際zhuan利。

立體定向?qū)?zhǔn) （2D Winston-Lutz） 測(cè)試

立體定向錐形輪廓

字段對(duì)齊

光束測(cè)量

輻射/光場(chǎng)重合

EPID圖像可以在沒有校準(zhǔn)文件的情況下進(jìn)行分析，并具有自定義的視場(chǎng)大小。中心位置可以通過采取

BB、針刺或使用 L-Rad Phantom。

全自動(dòng)星形分析

非對(duì)稱場(chǎng)/匹配線

深度劑量、交叉和正交剖面

電子能 （TG-25）

圖像直方圖

等劑量輪廓

3D 劑量曲線

快速平整度和對(duì)稱性

水箱梁測(cè)量分析

導(dǎo)入斷層放療®校準(zhǔn)文件

斷層放療®是 Accuray， Inc. 的注冊(cè)商標(biāo)

MLC質(zhì)量保證

Varian LINAC

EPID糾察柵欄測(cè)試

此例程可自動(dòng)執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測(cè)試。

自動(dòng)化瓦里安 RapidArc®測(cè)試

可以在距離 EPID、膠片或 CR 圖像的任何距離處拍攝圖像。這包括：測(cè)試 0.1、0.2、1.1、1.2、2 和 3。 RIT 的 RapidArc QA 例程支持 Millennium 120、HD120 MLC 和 Halcyon®MLC 模型。

瓦里安葉速試驗(yàn)

在不使用日志文件的情況下，該測(cè)試可測(cè)量瓦里安 MLC 葉片速度在成像儀上移動(dòng)時(shí)的一致性和準(zhǔn)確性。

瓦里安·哈爾西恩®MLC分析

執(zhí)行糾察圍欄或全面的 RapidArc®Halcyon的分析®MLC

Elekta LINAC

漢考克對(duì)醫(yī)科達(dá)機(jī)器的測(cè)試

漢考克測(cè)試（2 圖像測(cè)試、4 圖像測(cè)試和帶備用鉗口測(cè)試）使用 Elekta iView™ 成像儀自動(dòng)測(cè)量葉片位置與等中心位置以及顎葉片后退測(cè)量值。

EPID糾察柵欄測(cè)試

此例程可自動(dòng)執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測(cè)試。

醫(yī)科達(dá)葉速測(cè)試

此測(cè)試對(duì)齊兩張圖像，以分析 Elekta iView™ 和 Agility™ 的葉速一致性。
 

其他 MLC 測(cè)試

Bayouth MLC分析

分析需要在銀行之間留葉間隙的 MLC。

其他 MLC 測(cè)試

其中包括：TG-50 糾察柵欄測(cè)試、MSK 葉片測(cè)試、瓦里安 DMLC 測(cè)試模式和 MLC 傳輸分析。

成像 QA

EPID QC模塊

RIT長(zhǎng)子

（EPID QA Phantom - 由 Standard Imaging 制造和銷售。 這些測(cè)試包括：5 個(gè)區(qū)域的穩(wěn)定性、分辨率 （MTF）、幾何失真、均勻性、對(duì)比度和噪點(diǎn)。

PTW電子元

拉斯維加斯EPID

標(biāo)準(zhǔn)成像 QC-3

卡坦®、kV 和錐形梁模塊

瓦里安 504 CATPHAN

瓦里安 604 CATPHAN

醫(yī)科達(dá) 503 CATPHAN

西門子圖像質(zhì)量 Phantom

DR/CR kV模塊

IBA Primus（IBA普里姆斯酒店）®L

PTW 諾米®4

（20x20厘米和30x30厘米）

利茲 TOR-18 FG

標(biāo)準(zhǔn)成像 QC-kV1

kV/MV模塊

標(biāo)準(zhǔn)成像 ISOCube

五角星指南

基本模塊

DICOM圖像查看器

DICOM 標(biāo)簽查看器

圖像導(dǎo)入：DICOM 目錄瀏覽器、打開目錄瀏覽器、DICOM 文件過濾器

手動(dòng)測(cè)量：距離、角度、輪廓、直方圖、圓形和方形 ROI 以及輪廓的 ASCII 輸出

輸出格式：打印、PDF 導(dǎo)出、帶有自定義模板的 Excel 導(dǎo)出

監(jiān)控圖像質(zhì)量

圖像傳輸

自定義公差管理

使用公差管理器為所有自動(dòng)模型分析中使用的每個(gè)測(cè)量設(shè)置公差值和通過/失敗標(biāo)準(zhǔn)。該工具提供了在各種 LINAC 和成像系統(tǒng)上自定義公差所需的靈活性：

在易于使用的面板中方便地設(shè)置和切換公差，該面板位于主界面中，并顯示在每個(gè)模型分析例程中。

為分析及其相應(yīng)報(bào)告設(shè)置自己的通過/失敗標(biāo)準(zhǔn)，允許在所有成像 QA 分析中進(jìn)行wan全定制。

偏好配置文件和公差是根據(jù)每臺(tái)機(jī)器設(shè)置的。它們可以針對(duì)使用中的每臺(tái)機(jī)器進(jìn)行精確定制。

將所有通過/失敗容差數(shù)據(jù)傳輸?shù)?/span>RIT趨勢(shì)數(shù)據(jù)庫(kù)，以進(jìn)行統(tǒng)計(jì)跟蹤和趨勢(shì)™分析

其他測(cè)量

用于 QA 的電影劑量測(cè)定

放射致變色和放射致變色膠片，配備Vidar和平板掃描儀

平板非均勻性校正

放射致變色膠片均勻性校正

用于Vidar和平板掃描儀的2D掃描儀空間校準(zhǔn)

通用映像文件導(dǎo)入

Vidar 掃描儀接口（Vidar 掃描儀控制中心）

校準(zhǔn)

MLC標(biāo)定技術(shù)
zhuan利：EP 1318857、CA 2418232、JP 3817176、US 6675116、US 6934653 和 US 7013228。

用于Vidar和平板掃描儀的2D掃描儀空間校準(zhǔn)

垂直劑量校準(zhǔn)

校準(zhǔn)文件合并

EPID 質(zhì)量保證

導(dǎo)入用于 QA 的 EPID 映像

縮放瓦里安 EPID 的 DICOM 圖像

一般特征

圖像合成器

DICOM 匿名器

針刺、擦除和 ROI 工具

每個(gè)分析程序的 PDF 報(bào)告

基于云的軟件許可