能譜分析的基本原理

 

    從電子槍中發(fā)射出高能電子束撞擊樣品表面，與原子的內(nèi)層電子發(fā)生非彈性散射作用時(shí)，使原子發(fā)生電離，從而使原子失去一個(gè)內(nèi)層電子而變成離子，并在該電子層對(duì)應(yīng)位置產(chǎn)生一個(gè)空穴，原子為了恢復(fù)到穩(wěn)定態(tài)，較外層的電子就會(huì)填補(bǔ)到這個(gè)空穴，在填補(bǔ)過程中同時(shí)會(huì)產(chǎn)生具有特征能量的 X 射線，探測(cè)器接收到這些特征 X 射線后，經(jīng)過分析處理轉(zhuǎn)換最終得到譜圖和分析數(shù)據(jù)輸出。

    當(dāng)高能入射電子將原子的 K 層電子撞擊出來時(shí)同時(shí)會(huì)形成一個(gè)空穴，原子為了恢復(fù)到穩(wěn)定態(tài)，較外層的電子便會(huì)填充到 K 層的空穴中。如果是 L 層的電子填充 K 層的空穴，在此過程中會(huì)發(fā)射出 Kα 的 X 射線；如果是 M 層的電子填充 K 層的空穴，在此過程中會(huì)發(fā)射出 Kβ 的 X 射線；當(dāng)入射電子將原子的 L 層電子撞擊出來后，原子為了恢復(fù)到穩(wěn)態(tài)，這時(shí)位于 L 層以外的電子就會(huì)填補(bǔ)到 L 層上的空穴，若 M 層電子填補(bǔ)到 L 層，則會(huì)發(fā)射出 Lα  的 X 射線。

    布魯克QUANTAX 能譜儀結(jié)合了較好的能量分辨率和 30 毫米更大的固體角度®活動(dòng)區(qū)域芯片。這使得探測(cè)器對(duì)希望在EDS應(yīng)用的整個(gè)譜圖中使用探測(cè)器的分析中非常有吸引力，從輕元素分析到快速面掃描Mapping，以及EDS和EBSD測(cè)量的結(jié)合。X-Flash硅漂移探測(cè)器(SDD)與頂級(jí)的Hybrid 脈沖處理技術(shù)相結(jié)合能獲得較佳的能量分辨率和比常規(guī)Si(Li)探測(cè)器快十倍的測(cè)量速度。 

 

    布魯克QUANTAX 能譜儀配有界面友好、功能強(qiáng)大的ESPRIT軟件。該軟件標(biāo)配中、英文界面。應(yīng)用該軟件可進(jìn)行無標(biāo)樣定量分析，和有標(biāo)準(zhǔn)定量分析，或二種方法結(jié)合使用。另外，還可進(jìn)行點(diǎn)、線、面分析，線掃描，面分布，超級(jí)面分布，相分析，顆粒分析，鋼鐵分析，槍擊殘留物分析等等。