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德國 GEMU 閥門 560 系列 技術(shù)指導

參   考   價: 3000

訂  貨  量: ≥1 件

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號

品       牌GEMU/德國蓋米

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地北京市

更新時間:2025-04-10 13:48:50瀏覽次數(shù):100次

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應用領域 綜合
德國 GEMU 閥門 560 系列 技術(shù)指導

德國 GEMU 公司推出的 560 系列閥門,憑借其精密設計、材料創(chuàng)新與智能化特性,成為半導體工藝中流體控制的核心解決方案。

德國 GEMU 閥門 560 系列 技術(shù)指導


一、精密設計與材料工程的突破

(一)角座結(jié)構(gòu)優(yōu)化流體路徑

GEMU 560 系列采用角座設計,流體通道呈 90° 直角布局,有效減少紊流現(xiàn)象,降低壓力損失。這種結(jié)構(gòu)在半導體制造中尤為重要:


  • 化學氣相沉積(CVD):在薄膜沉積過程中,560 系列閥門的角座設計確保前驅(qū)體氣體的穩(wěn)定輸送,避免壓力波動對薄膜均勻性的影響。

  • 光刻膠涂布:在光刻環(huán)節(jié),直角流道設計減少了光刻膠對閥門內(nèi)壁的沖刷,延長了密封件的使用壽命,同時保證光刻膠顆粒均勻分散。

(二)高性能材料應對工況

閥體采用 PFA(全氟烷氧基樹脂)或 PTFE(聚四氟乙烯)等高性能工程塑料,具有以下優(yōu)勢:


  • 耐腐蝕性:在氫氟酸、硫酸等腐蝕性介質(zhì)的輸送中,560 系列閥門的塑料閥體可抵御長期侵蝕,避免金屬部件的銹蝕風險。

  • 低吸附性:PTFE 材質(zhì)表面光滑,減少了光刻膠、電子化學品等敏感介質(zhì)的非特異性吸附,適用于高純度流體的處理。

  • 輕量化:塑料材質(zhì)比傳統(tǒng)金屬閥門減重約 40%,便于半導體設備的集成與維護。

(三)模塊化連接與密封技術(shù)

560 系列提供多種連接方式(螺紋、卡套、法蘭),并支持 ISO、DIN 等國際標準,便于與*主流半導體設備集成。其密封系統(tǒng)采用雙層 O 型圈設計(如氟橡膠 FKM 與 PTFE 組合),在 - 20℃至 80℃的寬溫域內(nèi)保持穩(wěn)定密封性能,適用于:


  • 真空系統(tǒng):在真空鍍膜實驗中,閥門的高密封性可防止氣體泄漏,確保鍍膜質(zhì)量。

  • 超低溫環(huán)境:在液氮冷卻的實驗裝置中,閥門的密封性能不受低溫影響,保障實驗安全。

二、智能化控制與工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)集成

(一)多協(xié)議通信支持

560 系列閥門內(nèi)置智能驅(qū)動模塊,支持以下通信協(xié)議:


  • IO-Link:通過 IO-Link 接口與 PLC 或機器人系統(tǒng)實時交互,實現(xiàn)閥門狀態(tài)監(jiān)控與遠程參數(shù)調(diào)整。例如,在晶圓清洗環(huán)節(jié),可根據(jù)工藝需求動態(tài)調(diào)整去離子水的流量。

  • Profibus DP:在刻蝕機中,閥門可與氣體流量控制系統(tǒng)協(xié)同工作,根據(jù)刻蝕工藝需求自動切換氣體比例。

(二)傳感器集成與預測性維護

部分型號集成壓力、溫度傳感器,可實時監(jiān)測流體狀態(tài)并上傳數(shù)據(jù)至 MES 系統(tǒng)。例如:


  • 離子注入:在離子注入過程中,傳感器可檢測工藝氣體的壓力變化,預判閥門堵塞風險,提前觸發(fā)維護警報。

  • 晶圓封裝:在底部填充環(huán)節(jié),溫度傳感器可監(jiān)測環(huán)氧樹脂的溫度,避免因溫度異常導致的填充缺陷。

(三)自動化控制場景

560 系列閥門與自動化設備的協(xié)同應用:


  • AGV 物流系統(tǒng):在晶圓倉儲環(huán)節(jié),閥門可根據(jù) AGV 的路徑規(guī)劃自動切換物料輸送管路,實現(xiàn)無人化分揀。

  • 柔性生產(chǎn)線:在多制程共線生產(chǎn)中,閥門可通過預設參數(shù)快速切換流體配方,例如在 CVD 與刻蝕工藝中自動切換不同氣體類型。

三、半導體制造全流程應用

(一)晶圓加工

  1. 光刻膠涂布:在光刻膠循環(huán)管路中,560 系列閥門的低壓力損失設計確保光刻膠顆粒均勻分散,避免涂布缺陷。

  2. 顯影液輸送:在顯影環(huán)節(jié),閥門精確控制顯影液的流量,提高顯影精度與一致性。

(二)刻蝕與薄膜沉積

  1. 刻蝕氣體控制:在刻蝕機中,閥門控制氟基氣體的流量,確保刻蝕速率的穩(wěn)定性與均勻性。

  2. CVD 前驅(qū)體輸送:在化學氣相沉積過程中,閥門的高密封性設計可避免前驅(qū)體氣體泄漏,保障薄膜質(zhì)量。

德國 GEMU 閥門 560 系列 技術(shù)指導


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