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半導體深冷機chiller:半導體制程工藝過程定制化溫控方案

時間:2025/5/30閱讀:427
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  在半導體產(chǎn)業(yè)迅猛發(fā)展的當下,半導體深冷機已成為其中的控溫設備。作為專業(yè)的冷卻設備制造商,冠亞恒溫致力于為芯片制造提供穩(wěn)定、有效的溫度控制方案,從而保障半導體產(chǎn)品的品質(zhì)與性能表現(xiàn)。

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  一、半導體深冷機工作原理

  半導體深冷機主要由制冷系統(tǒng)、循環(huán)系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及箱體等核心部件構(gòu)成。其制冷系統(tǒng)采用蒸汽壓縮式制冷技術(shù),壓縮機及主要制冷組件均選用國際品牌,確保制冷效果。循環(huán)系統(tǒng)則包括循環(huán)泵、電加熱器、膨脹容器、排氣閥、單向閥、熱電阻以及循環(huán)管道等,共同協(xié)作實現(xiàn)流體的循環(huán)與溫度控制??刂葡到y(tǒng)采用PID控制技術(shù),配備高清觸摸屏,并設有多種保護功能,以確保設備的安全穩(wěn)定運行。通過機組自身的制冷與加熱功能,半導體深冷機能夠向外界輸送穩(wěn)定的載熱流體,滿足各種工藝條件的需求。

  二、半導體深冷機控溫對象

  1.硅片制造:提供穩(wěn)定冷卻,確?;瘜W機械拋光(CMP)效果均勻,提高硅片質(zhì)量。

  2.沉積:控制薄膜沉積過程中的溫度,避免質(zhì)量不均。

  3.光刻:調(diào)節(jié)曝光過程中的溫度,防止光刻膠流動,提高光刻精度。

  4.刻蝕:穩(wěn)定刻蝕環(huán)境,防止過熱導致的刻蝕不均。

  5.離子注入:冷卻離子注入過程中的熱量,確保離子分布均勻。

  6.清洗:控制清洗液溫度,提高清洗效果。

  7.電鍍:保持電鍍液溫度,確保鍍層均勻和結(jié)合力強。

  8.測試:提供恒定測試環(huán)境,確保測試數(shù)據(jù)準確。

  三、半導體深冷機產(chǎn)品特點

  1、全密閉系統(tǒng)設計

  循環(huán)管路采用全密閉設計,并配備呼吸孔,有效延長導熱油的使用壽命,確保系統(tǒng)運行的穩(wěn)定性,同時避免油霧結(jié)霜現(xiàn)象的發(fā)生。

  2、自主溫度控制模塊

  該模塊支持控制設定的靈活調(diào)整,能夠快速響應系統(tǒng)滯后,確保溫度控制的準確性。采用兩組PID控制回路(主、從回路),結(jié)合前饋PV技術(shù),實現(xiàn)梯度控制,進一步提高溫度控制的精度。

  3、有效換熱系統(tǒng)

  系統(tǒng)采用管道式加熱冷卻與緊湊的容積設計,配備板式換熱器(用于制冷)和管道式法蘭加熱器(用于加熱),實現(xiàn)有效的熱交換過程。

  4、控制重復性與穩(wěn)定性

  半導體深冷機采用動態(tài)控制系統(tǒng),顯著提升控制的重復性與穩(wěn)定性,確保設備在長時間運行過程中保持性能表現(xiàn)。

  5、產(chǎn)品外觀特點

  設備配備玻璃液位計,便于用戶觀察設備內(nèi)部情況,整體設計簡約時尚,既實用又美觀。

半導體深冷機通過提供準確和穩(wěn)定的溫度控制,Chiller有助于提高封裝過程的質(zhì)量和效率,確保存儲芯片的性能和可靠性。


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