無錫冠亞冷熱一體機 

解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置， 

用以滿足間歇反應器溫度控制 

或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。 

無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。  

實驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套釜特點

實驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套釜特點

　　實驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套的反應釜是綜合反應容器，根據(jù)反應條件對反應釜結(jié)構(gòu)功能及配置附件的設(shè)計。從開始的進料-反應-出料均能夠以較高的自動化程度完成預先設(shè)定好的反應步驟，對反應過程中的溫度、壓力、力學控制（攪拌、鼓風等）、反應物/產(chǎn)物濃度等重要參數(shù)進行嚴格的調(diào)控。

　　實驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套的反應釜所用的材料、攪拌裝置、加熱方法、軸封結(jié)構(gòu)、容積大小、溫度、壓力等各有異同、種類很多，它們的基本特點分述如下：

　　實驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套的反應釜結(jié)構(gòu)基本相同，除有反應釜體外，還有傳動裝置、攪拌和加熱（或冷卻）裝置等，可改善傳熱條件，使反應溫度控制得比較均勻，并不強化傳質(zhì)過程。

　　實驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套的反應釜操作壓力較高。釜內(nèi)的壓力是化學反應產(chǎn)生或由溫度升高而形成，壓力波動較大，有時操作不穩(wěn)定，突然的壓力升高可能超過正常壓力的幾倍，因此，大部分反應釜屬于受壓容器。

　　實驗室小型反應釜加熱冷卻裝置配套的反應釜操作溫度較高，通常化學反應需要在一定的溫度條件下才能進行，所以反應釜既承受壓力又承受溫度。獲得高溫的方法通常有以下幾種：

　　1）水加溫

　　要求溫度不高時可采用，其加熱系統(tǒng)有敞開式和密閉式兩種。敞開式較簡單，它由循環(huán)泵、水槽、管道及控制閥門的調(diào)節(jié)器所組成，當采用高壓水時，設(shè)備機械強度要求高，反應釜外表面焊上蛇管，蛇管與釜壁有間隙，使熱阻增加，傳熱效果降低。

　　2）蒸汽加熱

　　加熱溫度在100℃以下時，可用一個大氣壓以下的蒸汽來加熱；100——180℃范圍內(nèi)，用飽和蒸汽；當溫度更高時，可采用高壓過熱蒸汽。

　　3）用其它介質(zhì)加熱

　　若工藝要求建議在高溫下操作或欲避免采用高壓的加熱系統(tǒng)時，可用其它介質(zhì)來代替水和蒸汽，如礦物油（275——300℃）、聯(lián)苯醚混合劑（沸點258℃）、熔鹽（140——540℃）、液態(tài)鉛（熔點327℃）等。

　　4）電加熱

　　將電阻絲纏繞在反應釜筒體的絕緣層上，或安裝在離反應釜若干距離的特設(shè)絕緣體上，因此，在電阻絲與反應釜體之間形成了不大的空間間隙。

實驗室小型反應釜加熱冷卻裝置前三種方法獲得高溫均需在釜體上增設(shè)夾套，由于溫度變化的幅度大，使釜的夾套及殼體承受溫度變化而產(chǎn)生溫差壓力。采用電加熱時，設(shè)備較輕便簡單，溫度較易調(diào)節(jié)，但操作費用較其它加熱方法高，因此適用于加熱溫度在400℃以下和電能價格較低的地方。