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當(dāng)前位置:北京盈思拓科技有限公司>>產(chǎn)品展示
這臺高分辨率顯微成像橢偏儀有別于傳統(tǒng)橢偏儀,這是新一代的顯微成像橢偏儀技術(shù),它有機地結(jié)合了傳統(tǒng)光譜橢偏儀和光學(xué)顯微鏡技術(shù),使得我們能夠在小至1µm的微...
大尺寸臺式熱原子層沉積系統(tǒng) ALD安瑞克(ANRIC)技術(shù)公司開發(fā)的原子層沉積(ALD)是一種氣相薄膜沉積技術(shù),以其出色的匹配性、均勻性以及亞納米級的厚度控制而...
多功能高低溫真空探針臺,電-光-氣接口齊全,應(yīng)用場景不受限??蓪崿F(xiàn)寬溫度范圍、高真空或氣氛控制??膳c各種阻抗分析儀、LCR表、鐵電測試儀、光伏測試儀、半導(dǎo)體參數(shù)...
等離子體增強原子層沉積PEALDAT650P(等離子體增強)/AT650T(熱型)AT650T可在用戶現(xiàn)場升級為AT650P
小型臺式 ALD(原子層沉積)工具專為簡單的操作和安裝而設(shè)計,而不會犧牲其性能,用于成本效益型研究與開發(fā)。
粉末原子層沉積系統(tǒng)ALD
該款A(yù)LD原子層沉積設(shè)備特別適用于科研用戶的小型臺式設(shè)備。它經(jīng)濟實用、操作簡單、質(zhì)量穩(wěn)定可靠、售后耗材費用極低、維修便捷、容易操作。ALD專家教授實驗室被廣泛使...
AT-200M(熱原子層沉積系統(tǒng))
市面上最小的ALD,可放進手套箱,來自美國哈佛的原子層沉積系統(tǒng)兼容高溫的快速脈沖 ALD 閥,具有超快 MFC,用于集成惰性氣體吹掃。
IM4000Ⅱ標(biāo)準(zhǔn)離子研磨儀使用低能量Ar離子束,加工無應(yīng)力損傷的樣品截面,為SEM觀察樣品的內(nèi)部多層結(jié)構(gòu)、結(jié)晶狀態(tài)、異物解析、層厚測量等提供有效的樣品前處理方...
WK6500系列精密阻抗分析儀七種機型:20Hz~5MHz,10MHz,15MHz,20MHz,30MHz,50MHz和120MHz,符合客戶不同采購需求
WK6500P高頻LCR表系列適用于生產(chǎn)線上高頻LCRMeter的量測,本機種一共有七種機型,分別20HZ~5MHz,20HZ~10MHz,20HZ~15MHz...
布魯克的HysitronTl980Tribolndenter同時具有優(yōu)異的性能、靈活性、可靠性、可用性和速度
德國SciDre公司推出的高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度,晶體生長腔壓力可達300bar,甚至10-5mbar的高真空
PICOSUN®P-300BALD系統(tǒng)是專為生產(chǎn)MEMS設(shè)備(例如打印頭,傳感器和麥克風(fēng))以及各種3D物品(例如機械零件,玻璃或金屬薄板,硬幣,手表零...
PICOSUN™R-200高級型ALD系統(tǒng)是ALD科研設(shè)備市場的,在擁有百用戶
PICOSUN R-200 標(biāo)準(zhǔn)型ALD系統(tǒng),PICOSUN®R-200標(biāo)準(zhǔn)ALD系統(tǒng)適用于數(shù)十種應(yīng)用的研發(fā),例如IC組件、MEMS器件、顯示器、LE...
CAM-C系列流延機面向較少資金投入的客戶設(shè)計,提供了更高的自動化水平,更高的精度和緊湊型設(shè)計,是一個真正創(chuàng)新型流延機
小批量應(yīng)用的流延機,適合250mm載帶寬度,采取重力供應(yīng)漿料方式
VibroMet2振動拋光機可通過幾乎水平方向的振動,搭配MasterMet2二氧化硅拋光液使用,可去除樣品表面機械化制樣后殘留的細(xì)微變形層,從而得到高質(zhì)量的拋...
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