MSC-200T-D桌上型半自動(dòng)旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)用于對(duì)均勻性和一致性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液自動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰、光柵、ITO、...

MSD-150D主要應(yīng)用于曝光后的顯影工藝。該設(shè)備主要由顯影腔單元、自動(dòng)擺臂單元、 以及供液系統(tǒng)、主軸系統(tǒng)、控制系統(tǒng)及排液系統(tǒng)等組成，整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu)，外表為鏡...

設(shè)備簡(jiǎn)介：桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)，用于對(duì)均勻性要求較高的表面涂布工藝，將光刻膠溶液手動(dòng)涂覆在硅片、磷化銦、碳化硅、氮化鎵、鈮酸鋰等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于12寸以內(nèi)...

應(yīng)用：在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同，也和旋轉(zhuǎn)速度及時(shí)間有關(guān)。應(yīng)用：在...

該設(shè)備用于 8 寸晶圓的涂膠、顯影、烘烤工藝；設(shè)備包括主要的工藝模塊：涂膠模塊 COT,顯影模塊 DEV、熱 盤 HP 等（各腔體間有擋板隔開）等，按需設(shè)計(jì)，多...

桌上型旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)將溶液涂覆在硅片、FTO、ITO、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于鈣鈦礦電池和光刻膠涂敷成膜等領(lǐng)域。主要應(yīng)用于4、6寸樣品。該款可為客戶提...

MAS4-BE光刻系統(tǒng)一體機(jī)主要由勻膠單元、烤膠單元、曝光單元、顯影單元等部分組成，該設(shè)備針對(duì)高校研究所實(shí)驗(yàn)室，特點(diǎn)是占地面積小，性價(jià)價(jià)比更高。整機(jī)采用框架結(jié)構(gòu)...