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當前位置：合肥重光電子科技有限公司>>光刻機>> CG-MLC6實驗室無掩膜曝光機
產品特點：
數(shù)字光刻系統(tǒng)
微納器件無掩模版直寫光刻
光掩模版制作
3D結構曝光功能
自動對準功能
用戶自定義標記對準功能
可視化定點曝光功能
自動聚焦功能
不規(guī)則樣片曝光
快速、精細兩種曝光模式
支持多種數(shù)據格式（GDSⅡ/ Gerber/ O DB++）
背部對準功能（選配）
實驗室無掩膜曝光機
405nm LD光源（375nm可選）
參數(shù)：
型號 | MLC Lite | ||
ModeⅠ | Mode Ⅱ | Mode Ⅲ | |
最小特征尺寸 | 0.5μm | 1μm | 2μm |
最小線寬線距 | 0.8μm | 1.2μm | 2.5μm |
CD均勻性 | 10% | 10% | 10% |
兩層對位精度 5x5m㎡ | 500nm | 800nm | 1000nm |
兩層對位精度 50x50m㎡ | 800nm | 1000nm | 1500nm |
產能 | 50mm2/min | 100mm2/min | 300mm2/min |
最小基板尺寸 | 5mm x 5mm | ||
基板厚度 | 0.1 - 12mm(可選) | ||
曝光面積 | 150mm x 150mm | ||
灰度曝光 | 可選128階 | ||
曝光光源 | Laser, 405nm or 375nm | ||
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