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應用領域 | 電子/電池,包裝/造紙/印刷,鋼鐵/金屬,電氣,綜合 |
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MIKASA米卡薩小型高性能旋涂機
MIKASA米卡薩小型高性能旋涂機
在科技日新月異、制造業(yè)不斷追求的今天,美薩公司憑借其對市場需求的敏銳洞察和強大的技術研發(fā)實力,隆重推出了 MIKASA 品牌的全新旋轉涂布機——MIKASA MS-B150。這一新品的亮相,無疑為半導體制造等相關行業(yè)帶來了新的發(fā)展契機。
2025年7月最新發(fā)布MIKASA MS-B150是一款小型高性能旋涂機,屬于日本MIKASA品牌,適用于潔凈室環(huán)境,主要用于半導體等行業(yè)的薄膜涂布工藝。該產品在防止污染、溫度控制及膜厚精度方面表現(xiàn)出色。
潔凈室適配性:采用AC伺服無刷電機,減少發(fā)熱及污染物產生,適合潔凈室連續(xù)運行。
高精度控制:轉速精度達±1rpm(負載時),膜厚再現(xiàn)性優(yōu)異。
操作靈活性:支持100步×10種模式的步進控制,可自定義涂布流程。
參數(shù)項 | 詳細規(guī)格 |
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最大板尺寸 | φ4英寸晶圓或75×75mm基板 |
轉速范圍 | 20~8,000轉/分 |
旋轉精度 | ±1rpm(負載時) |
真空系統(tǒng) | 標準配備真空聯(lián)鎖裝置,壓力-0.08~-0.1MPa |
外形與重量 | 259寬×246高×330深(毫米),10公斤 |
可選配置 | 蓋子(需單獨選購) |
其他限制 | 無法安裝滴水裝置 |
半導體制造:晶圓表面涂層制備。
精密電子:小型基板的均勻涂布工藝。
科研實驗:實驗室級薄膜材料研發(fā)。
MIKASA MS - B150旋轉涂布機主要用于半導體制造領域,特別是光刻曝光環(huán)節(jié)。它可以實現(xiàn)半導體制造的光刻膠的旋轉涂布,還能對其它低粘度液體進行均勻涂布。此外,該產品還可用于光刻處理旋涂、掩模對準以及開發(fā)和蝕刻研究等工作,并且可搭配各種測量機,用于薄膜厚度測量、步差、線寬和形狀測量等。
旋轉精度高:具備±1rpm的高精度,能確保在負載時也能穩(wěn)定運行,從而保證涂布的精準度。
旋轉參數(shù)可任意設定:可任意設定旋轉數(shù)(0 - 5,000rpm)和到達旋轉數(shù)的時間(0.2sec - 999.9sec),通過對這些參數(shù)的調整,能輕易地控制膜厚,滿足不同的生產需求。
可追加裝置:可追加滴下裝置(MS - A150/MS - A200)和膜厚測量裝置,如OFPR - 800LB(東京應化制)或FILMETRICS制F50,進一步完善產品功能。
擴張程式功能:擁有擴張程式功能,最多有100階段程式、可記憶10種模式,使操作更加簡便,提高了使用的便利性。
無刷式設計:采用無刷式設計,不會造成無塵室污染,適用于對環(huán)境要求較高的半導體制造環(huán)境。
減少發(fā)熱影響:減少電動機發(fā)熱,降低了因連續(xù)使用時的溫度上升對膜厚再現(xiàn)性的影響,保證了產品的穩(wěn)定性和可靠性。
低電力消費:電力消費低,有助于減低環(huán)境的負擔,符合環(huán)保理念。
標準配備數(shù)位式真空計:所有機型皆標準配備數(shù)位式真空計,方便用戶實時監(jiān)測真空狀態(tài)。
停止位置可設定:方形基板等可設定停止時位置,操作超方便,提高了生產效率。
安全裝置完善:配備安全裝置機構(真空壓及蓋子),保障操作人員的安全
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