產(chǎn)品推薦:氣相|液相|光譜|質(zhì)譜|電化學(xué)|元素分析|水分測定儀|樣品前處理|試驗(yàn)機(jī)|培養(yǎng)箱


化工儀器網(wǎng)>技術(shù)中心>解決方案>正文

歡迎聯(lián)系我

有什么可以幫您? 在線咨詢

光學(xué)元件的插入與移除,實(shí)現(xiàn)白光干涉中的機(jī)械相移原理

來源:廣州萬智光學(xué)技術(shù)有限公司   2025年01月07日 09:56  

在白光干涉測量中,通過光學(xué)元件的插入與移除來實(shí)現(xiàn)機(jī)械相移原理是一種有效的方法。這種方法的核心在于利用光學(xué)元件(如透鏡、反射鏡、棱鏡等)對(duì)光路的改變,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)相位差的調(diào)制。以下是對(duì)這一原理的詳細(xì)解釋:


一、基本原理

白光干涉測量基于光的干涉原理,即當(dāng)兩束相干光波在空間某點(diǎn)相遇時(shí),它們會(huì)產(chǎn)生干涉現(xiàn)象,形成明暗相間的干涉條紋。干涉條紋的形成取決于兩束光的相位差,而相位差則與它們經(jīng)過的光程差有關(guān)。通過改變光程差,可以實(shí)現(xiàn)相位調(diào)制,進(jìn)而獲取待測物體的相關(guān)信息。

在機(jī)械相移的實(shí)現(xiàn)中,光學(xué)元件的插入與移除可以改變光線的傳播路徑,從而改變光程差和相位差。當(dāng)光學(xué)元件被插入光路時(shí),它會(huì)對(duì)光線進(jìn)行折射、反射或透射,使光線的傳播路徑發(fā)生變化,導(dǎo)致光程差和相位差的變化。相反,當(dāng)光學(xué)元件被移除時(shí),光線的傳播路徑會(huì)恢復(fù)到原始狀態(tài),光程差和相位差也會(huì)相應(yīng)變化。

二、實(shí)現(xiàn)方式

光學(xué)元件的選擇:

根據(jù)測量需求和光路設(shè)計(jì),選擇合適的光學(xué)元件。例如,透鏡可以用于聚焦或準(zhǔn)直光線,反射鏡可以改變光線的傳播方向,棱鏡則可以實(shí)現(xiàn)光線的折射和偏轉(zhuǎn)。

光學(xué)元件的插入與移除:

通過機(jī)械裝置(如平移臺(tái)、旋轉(zhuǎn)臺(tái)等)實(shí)現(xiàn)光學(xué)元件的精確插入與移除。這些機(jī)械裝置需要具有高精度和穩(wěn)定性,以確保光學(xué)元件能夠準(zhǔn)確地插入或移除到預(yù)定位置。

光路調(diào)整:

在插入或移除光學(xué)元件后,需要對(duì)光路進(jìn)行調(diào)整,以確保光線能夠正確地傳播到干涉儀的接收屏上。這通常涉及對(duì)反射鏡、透鏡等光學(xué)元件的位置和角度進(jìn)行微調(diào)。

干涉條紋的監(jiān)測:

在光學(xué)元件插入與移除的過程中,需要實(shí)時(shí)監(jiān)測干涉條紋的變化。這可以通過高分辨率的相機(jī)或光電探測器實(shí)現(xiàn),它們能夠捕捉到干涉條紋的微小移動(dòng)或變化。

三、技術(shù)難點(diǎn)與解決方案

光學(xué)元件的精確定位:

光學(xué)元件的精確定位是實(shí)現(xiàn)機(jī)械相移的關(guān)鍵。需要采用高精度的機(jī)械裝置和定位技術(shù),以確保光學(xué)元件能夠準(zhǔn)確地插入或移除到預(yù)定位置。

光路調(diào)整的復(fù)雜性:

在插入或移除光學(xué)元件后,光路的調(diào)整可能變得非常復(fù)雜。需要采用的光路設(shè)計(jì)和調(diào)整技術(shù),以確保光線能夠正確地傳播到干涉儀的接收屏上。

干涉條紋的識(shí)別與處理:

在光學(xué)元件插入與移除的過程中,干涉條紋可能會(huì)受到噪聲、振動(dòng)等外部因素的干擾。需要采用濾波、去噪等圖像處理技術(shù)來提高干涉條紋的識(shí)別精度。

四、應(yīng)用

通過光學(xué)元件的插入與移除實(shí)現(xiàn)機(jī)械相移原理在白光干涉測量中具有廣泛的應(yīng)用。例如,它可以用于測量物體的表面形貌、厚度、折射率等參數(shù);還可以用于檢測光學(xué)元件的缺陷、應(yīng)力分布等。此外,這種方法還可以與其他測量技術(shù)相結(jié)合,以實(shí)現(xiàn)更高精度的測量和更豐富的信息提取。

綜上所述,通過光學(xué)元件的插入與移除實(shí)現(xiàn)機(jī)械相移原理是一種有效的方法,它在白光干涉測量中具有廣泛的應(yīng)用前景。然而,要實(shí)現(xiàn)高精度的測量和穩(wěn)定的相位調(diào)制,需要克服一系列技術(shù)難點(diǎn)和挑戰(zhàn)。通過不斷優(yōu)化和改進(jìn)測量系統(tǒng)和方法,可以進(jìn)一步提高白光干涉測量的精度和可靠性。

TopMap Micro View白光干涉3D輪廓儀

一款可以“實(shí)時(shí)”動(dòng)態(tài)/靜態(tài) 微納級(jí)3D輪廓測量的白光干涉儀

1)一改傳統(tǒng)白光干涉操作復(fù)雜的問題,實(shí)現(xiàn)一鍵智能聚焦掃描,亞納米精度下實(shí)現(xiàn)良好的重復(fù)性表現(xiàn)。

2)系統(tǒng)集成CST連續(xù)掃描技術(shù),Z向測量范圍高達(dá)100mm,不受物鏡放大倍率的影響的高精度垂直分辨率,為復(fù)雜形貌測量提供全面解決方案。

3)可搭載多普勒激光測振系統(tǒng),實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)“動(dòng)態(tài)”3D輪廓測量。


image_1.png


實(shí)際案例


image_2.png


1,優(yōu)于1nm分辨率,輕松測量硅片表面粗糙度測量,Ra=0.7nm



image_3.png


2,毫米級(jí)視野,實(shí)現(xiàn)5nm-有機(jī)油膜厚度掃描


image_4.png


3,“高深寬比”測量能力,實(shí)現(xiàn)光刻圖形凹槽深度和開口寬度測量。


免責(zé)聲明

  • 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
  • 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對(duì)其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個(gè)人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時(shí),必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
  • 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請(qǐng)?jiān)谧髌钒l(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
企業(yè)未開通此功能
詳詢客服 : 0571-87858618