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CY-MSH325-II-DCRF-SS-ZD 粉末磁控濺射鍍膜儀
參考價(jià) | ¥ 220000 |
訂貨量 | ≥1件 |
- 公司名稱(chēng) 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) CY-MSH325-II-DCRF-SS-ZD
- 產(chǎn)地 鄭州
- 廠(chǎng)商性質(zhì) 生產(chǎn)廠(chǎng)家
- 更新時(shí)間 2024/12/3 14:36:11
- 訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 25
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產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬(wàn)-30萬(wàn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子,冶金,汽車(chē),電氣 | 真空腔體 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 |
樣品臺(tái)尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 | 磁控靶 | 普通永磁靶,可調(diào)角度 |
靶材尺寸 | 直徑2英寸,厚度≦3mm, | 濺射功率 | 濺射功率 |
磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設(shè)備,利用磁控濺射技術(shù)將粉末狀的靶材轉(zhuǎn)化為薄膜覆蓋在基材上。
以下是其工作原理和用途的詳細(xì)說(shuō)明。
磁控濺射鍍膜儀廣泛應(yīng)用于以下領(lǐng)域:
半導(dǎo)體制造:
用于沉積各種功能薄膜,如導(dǎo)電層、絕緣層、阻擋層等,是半導(dǎo)體器件制造中關(guān)鍵的工藝步驟。
光學(xué)器件:
在光學(xué)元件上鍍膜,形成抗反射層、濾光層或反射層,改善光學(xué)性能。
防護(hù)涂層:
在工具或機(jī)械部件上沉積耐磨涂層,增加表面硬度和抗腐蝕性能,延長(zhǎng)使用壽命。
裝飾性鍍膜:
用于裝飾性涂層的沉積,改變物體表面的顏色、光澤或質(zhì)感,廣泛應(yīng)用于珠寶、手表等領(lǐng)域。
能源領(lǐng)域:
用于制造太陽(yáng)能電池中的透明導(dǎo)電氧化物(如ITO)薄膜,以及在儲(chǔ)能設(shè)備中沉積功能層。
生物醫(yī)學(xué)器件:
應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)器件表面的功能化處理,如在植入物上沉積抗菌涂層或生物相容性涂層。
磁控濺射鍍膜儀的優(yōu)勢(shì)在于其對(duì)多種材料的兼容性以及能夠控制薄膜的均勻性和成分。
粉末磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱(chēng) | 粉末磁控濺射鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSH325-II-DCRF-SS-ZD | |
供電電壓 | AC220V,50Hz | |
整機(jī)功率 | 6KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺(tái) | 外形尺寸 | φ150mm 振動(dòng)頻率20Hz-20KHz |
磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm |
冷卻模式 | 循環(huán)水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
數(shù)量 | 2 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm |
腔體材質(zhì) | SUU304不銹鋼 | |
觀(guān)察窗口 | 直徑φ100mm | |
開(kāi)啟方式 | 頂開(kāi)式 | |
氣體控制 | 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM | |
真空系統(tǒng) | 配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速600L/S | |
膜厚測(cè)量 | 可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 配直流電源,功率500W*2 射頻電源500W | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專(zhuān)業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) | |
設(shè)備尺寸 | 570mm×1040mm×1700mm | |
設(shè)備重量 | 350kg |