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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>其它實驗室常用設(shè)備>鍍膜機>CY-MSH325X-III-DCDCDC-SS 三靶直流磁控濺射鍍膜儀

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CY-MSH325X-III-DCDCDC-SS 三靶直流磁控濺射鍍膜儀

參考價 250000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 CY-MSH325X-III-DCDCDC-SS
  • 產(chǎn)地 鄭州
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2024/12/3 14:54:31
  • 訪問次數(shù) 41

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州市*開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的研發(fā)團隊憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實踐經(jīng)驗,先后研發(fā)出了多款*材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點,推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界*好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實驗方案的實施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團隊為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負責(zé)到底。鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的誠信、實力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。


管式爐,氣氛爐,馬弗爐,等離子磁控濺鍍膜儀,等離子清洗機,切斷機,拋光機

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 10萬-30萬
應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣 真空腔體 直徑≦100mm的平面樣品均可
樣品臺尺寸 直徑≦100mm的平面樣品均可 磁控靶 普通永磁靶,可調(diào)角度
靶材尺寸 直徑2英寸,厚度≦3mm, 濺射功率 500W

三靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購;所配電源為500W直流電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要,可以定制其他射頻電源和脈沖電源,各型電源均有500W到1000W多種規(guī)格可選。

鍍膜儀配有兩路高精度質(zhì)量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路,以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求;儀器標配渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制,在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能,可以進一步提高您的實驗效率。

三靶磁控濺射鍍膜儀應(yīng)用范圍:

三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備

三靶直流磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù):


三靶電磁控濺射鍍膜儀

樣品臺

尺寸

φ150mm

控溫精度

±1℃

轉(zhuǎn)速

≦20rpm

加熱溫度

≤750℃

磁控靶槍

數(shù)量

2” x3 (1”,2”可選)

靶材尺寸
直徑Φ50.8mm,厚度≦3mm

水流大小

不小于10L/Min

冷卻方式

循環(huán)水冷

真空腔體

腔體尺寸

Dia.325mm×600mm

觀察窗口

φ100mm

開啟方式

前開式

腔體材料

不銹鋼

質(zhì)量流量計

2路;量程100sccm;100sccm(可根據(jù)客戶需要定制多路氣路)

真空系統(tǒng)

產(chǎn)品型號

CY-GZK103-A

分子泵

CY-600

抽氣接口

CF160

排氣接口

KF40

前極泵

旋片泵

真空測量

復(fù)合真空計

供電電源

AC;220V 50/60Hz

極限真空

1.0E-5Pa

抽氣速率

分子泵:600L/S  旋片泵:1.1L/S  綜合抽氣性能:20分鐘真空度可達: 1.0E-3Pa

電源配置

數(shù)量

直流電源x2  射頻電源 x1

*大輸出功率

直流電源500W 射頻電源500W


其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機尺寸

1090mm X 900mm X 1250mm

整機重量

350kg

整機功率

6KW








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