Model 200 紫外掩膜曝光機(jī) 返回列表頁

OAI 200 型掩模對(duì)準(zhǔn)器和紫外曝光系統(tǒng)是一款高性價(jià)比的高性能工具，其采用了行業(yè)模塊化組件，這使得 OAI 在微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)和半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)處于優(yōu)勢(shì)地位。200 型是一款臺(tái)式設(shè)備，所需潔凈室空間極小。它為研發(fā)、中試或小批量生產(chǎn)提供了經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的選擇。該系統(tǒng)采用創(chuàng)新的氣浮 / 真空吸盤調(diào)平系統(tǒng)，能快速、輕柔地對(duì)基板進(jìn)行調(diào)平，確保在接觸曝光過程中，光刻掩模與晶圓平行對(duì)準(zhǔn)且全面均勻接觸。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)微米級(jí)分辨率和對(duì)準(zhǔn)精度。對(duì)準(zhǔn)模塊配備了掩模插入組和快換式晶圓吸盤，無需工具重新配置，即可使用多種基板和掩模。對(duì)準(zhǔn)模塊集成了用于 X、Y 和 θ 軸的千分尺。200 型對(duì)準(zhǔn)器可配備多種對(duì)準(zhǔn)光學(xué)器件，包括背面紅外（IR）對(duì)準(zhǔn)器件。紅外照明真空吸盤可配置用于整片晶圓或晶圓碎片的對(duì)準(zhǔn)。OAI 200 型可配置 OAI 納米壓印模塊，使其成為市面上低成本的納米壓?。∟IL）工具。OAI 還提供一種模塊，專為使用液態(tài)光聚合物快速原型制作或生產(chǎn)微流控器件而設(shè)計(jì)。

200 型配備了可靠的 OAI 光源，使用功率范圍為 200 至 2000 瓦的燈，可提供近紫外或深紫外的準(zhǔn)直紫外光。雙傳感器光學(xué)反饋回路與恒定強(qiáng)度控制器相連，將曝光強(qiáng)度控制在所需強(qiáng)度的 ±2% 以內(nèi)。紫外波長(zhǎng)的更換快速便捷。200 型是適用于任何入門級(jí)掩模對(duì)準(zhǔn)和紫外曝光應(yīng)用的高靈活性、經(jīng)濟(jì)型解決方案。