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品牌 LinKam
型號 TS1500V
廠商性質 代理商
所在地 北京市

屬性

供貨周期:現(xiàn)貨應用領域:綜合

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更新時間：2025-10-23 15:22:57瀏覽次數(shù)：58評價

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Linkam 高溫真空熱臺基礎解析
TS1500V的整體結構以“穩(wěn)定控溫+高真空密封"為核心。其主體采用不銹鋼材質加工的真空腔體，內(nèi)壁經(jīng)拋光處理以減少氣體吸附，配合O型硅橡膠密封圈與法蘭連接，確保真空環(huán)境的持久性。

詳細介紹

Linkam 高溫真空熱臺基礎解析

產(chǎn)品設計與用材

TS1500V的整體結構以“穩(wěn)定控溫+高真空密封"為核心。其主體采用不銹鋼材質加工的真空腔體，內(nèi)壁經(jīng)拋光處理以減少氣體吸附，配合O型硅橡膠密封圈與法蘭連接，確保真空環(huán)境的持久性。樣品臺部分選用氧化鋁陶瓷基底，表面經(jīng)平面研磨，可承載直徑25mm、厚度10mm以內(nèi)的樣品，兼顧導熱性與抗腐蝕能力。加熱元件為多匝鉬合金絲，纏繞于陶瓷絕緣支架上，避免金屬污染，同時提升高溫下的熱輻射效率。

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關鍵性能參數(shù)

根據(jù)技術文檔，TS1500V的標準溫度范圍為室溫至1500℃，升溫速率可在1-20℃/min間調節(jié)，降溫時通過自然冷卻或輔助風冷實現(xiàn)。真空系統(tǒng)配備雙級機械泵與分子泵組合，極限真空度可達1×10?3 Pa（需配合用戶端額外泵組升級），工作真空度通常維持在1×10?2 Pa至1 Pa范圍內(nèi)。設備標配RS232通訊接口，支持通過上位機軟件設置溫度曲線與實時監(jiān)控。

基礎用途與使用場景

該熱臺主要用于高溫真空條件下的材料行為觀測。例如，在金屬材料研究中，可模擬退火、固溶處理過程，觀察晶粒生長或析出相演變；在地質領域，用于模擬地幔礦物在高溫高壓（需搭配外部加壓裝置）下的相變；半導體行業(yè)中，則可進行薄膜材料的真空退火，研究界面缺陷修復機制。使用時需注意：樣品需預處理去除表面油污，避免污染真空腔；使用前建議空載運行2小時，確認溫控與真空系統(tǒng)穩(wěn)定性。

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