1. 產(chǎn)品概述
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng),優(yōu)良的磁控濺射系統(tǒng),有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。
2. 設(shè)備用途/原理
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng),優(yōu)良的磁控濺射系統(tǒng),有效提高薄膜均勻性及靶材利用率,加熱基座和高溫靜電卡盤設(shè)計(jì),具備良好的溫度均勻性,全新雙腔傳輸平臺(tái),可配置性強(qiáng),多可支持 10 個(gè)工藝模塊,優(yōu)質(zhì)的 Whisker 解決方案,降低產(chǎn)品缺陷,大產(chǎn)能,低運(yùn)營(yíng)成本。
3. 設(shè)備特點(diǎn)
晶圓尺寸 8、12 英寸,適用材料 高溫鋁、氮化鉭、氮化鈦。適用工藝 熱鋁、鋁焊盤、鋁線,適用域 新興應(yīng)用。