深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

  • CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)

    CIF 生產(chǎn)型等離子清洗機(jī)是為研發(fā)型客戶和工業(yè)級客戶而設(shè)計的等離子體表面處理設(shè)備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場景。適用于等離子清洗，活化以及刻...
    型號： CPC15/35/... 所在地：北京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/10 15:05:09 對比

  • 晶圓甩干機(jī)

    1.是高潔凈度的沖洗旋干設(shè)備。主要系應(yīng)用于硅晶圓、掩模板、太陽能電池等材料的高潔凈度沖洗旋干。設(shè)備具有單工作室、雙工作室兩種結(jié)構(gòu)。2.產(chǎn)品類型：有立式單腔，雙腔...
    型號： customize... 所在地：無錫市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 16:13:48 對比

  • 噴涂膠機(jī)

    在噴涂法中，噴嘴將要涂抹的溶液噴在晶圓上。經(jīng)過優(yōu)化后的晶圓上方噴嘴移動路徑可以實現(xiàn)在襯底上均勻的涂層。 噴涂所用的液體通常粘度極低，以確保形成細(xì)小的液滴
    型號： AS8 所在地：德國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 15:03:11 對比

  • 納米壓印系統(tǒng)

    納米壓印系統(tǒng) 簡介：1. 兼容基底尺寸：直徑≤100mm2. 支持基底材料：硅片、玻璃、石英、塑料、金屬等3. 納米壓印技術(shù)：旋涂膠基底高精度壓印&點膠自動找平...
    型號： GL6 R&... 所在地：青島市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:51:14 對比

  • 電子束光刻系統(tǒng)

    電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù)：1.最小線寬≤8nm光柵周期≤40nm2.50KV加速電壓下，寫場可在0.5μm~500μm的范圍內(nèi)連續(xù)可調(diào)3.肖特基熱場發(fā)射電子束源...
    型號： eLINE Plu... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:43:42 對比

  • 無掩膜/激光直寫光刻機(jī)

    無掩膜/激光直寫光刻機(jī) 參數(shù)：1. 光源：375 nm、385 nm、405 nm 激光器2. 線寬：0.5μm、0.6μm、1.0μm、1.5μm3. 光刻效...
    型號： UV Litho-... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:14:13 對比

  • 槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備

    槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備 應(yīng)用領(lǐng)域：RCA清洗，濕法去膠，介質(zhì)層濕法刻蝕，金屬層濕法刻蝕，爐管前清洗等
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:11:50 對比

  • 有掩膜光刻機(jī)

    1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機(jī)2.高分辨率掩模對準(zhǔn)光刻，特征尺寸優(yōu)于0.5微米3.基片尺寸可滿足4、6、8、12英寸4.經(jīng)過特殊設(shè)計，方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基...
    型號： MA12 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:10:06 對比

  • 等離子清洗&去膠機(jī)

    等離子清洗&去膠機(jī)產(chǎn)品簡介：1) 用途：材料清洗、材料活化、材料刻蝕、材料涂覆(2) 80 kHz：功率 1000 或 3000 W(3) 13.56 MHz：...
    型號： customize... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 14:05:19 對比

  • 全封閉式桌面顯影機(jī)

    DM200-SE全封閉式桌面顯影機(jī)的特點包括：全封閉式顯影：有效避免顯影過程中產(chǎn)生的霧氣擴(kuò)散到外部，從而保護(hù)環(huán)境免受污染。外殼噴塑處理：外殼采用噴塑工藝，不僅耐...
    型號： DM200-SE 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 11:07:24 對比

  • 涂膠顯影半自動機(jī)臺

    KS-M300半自動機(jī)臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產(chǎn)的工藝試驗和生產(chǎn)線。占地面積小，操作時...
    型號： KS-M300 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 11:03:22 對比

  • 手動光刻機(jī)

    MS6-CA手動光刻機(jī)是一款高性能的精密加工設(shè)備，專為微電子、半導(dǎo)體、光電等領(lǐng)域的研發(fā)與生產(chǎn)設(shè)計。
    型號： MS6-CA 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 11:00:51 對比

  • 12寸噴霧式涂膠機(jī)

    KS-S300全自動噴霧式涂膠機(jī)通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒，適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠，可以有效覆蓋溝槽的側(cè)壁和邊緣，避免溝槽堆積...
    型號： KS-S300-S... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:55:36 對比

  • 激光光刻機(jī).

    DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速、靈活的高分辨率圖形發(fā)生器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化，設(shè)計用于集成電路、MEMS、...
    型號： DWL 2000 ... 所在地：國外 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:52:19 對比

  • 高溫型烤膠機(jī)

    HP100-HT-CTM高溫型烤膠機(jī)，不銹鋼鍍陶瓷加熱，觸屏控溫，獨立電路，隔熱設(shè)計，安全耐用，高溫均勻，適合精密實驗。
    型號： HP100-HT-... 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:51:44 對比

  • 精密型烤膠機(jī)

    HP6精密型烤膠機(jī)，全鋁機(jī)身，高精度控溫，獨立電路，真空吸附，數(shù)顯溫控，可選線性控溫，小巧便攜，適合手套箱使用。
    型號： HP6 所在地：南京市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:48:33 對比

  • AP200/300 投影步進(jìn)式光刻機(jī)

    AP200/300 系列光刻系統(tǒng)基于 Veeco 的可定制 Unity 平臺™構(gòu)建，可提供覆蓋層、分辨率和側(cè)壁輪廓性能，并可實現(xiàn)高度自動化和具有成本...
    型號： 所在地：深圳市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:41:07 對比

  • 12寸 集束型涂膠顯影機(jī)

    KS-C300涂膠顯影機(jī)可用于封裝、 MEMS、OLED等領(lǐng)域的涂覆顯影制程，每小時可加工180片晶片，同時產(chǎn)品可兼容不同材質(zhì)的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物...
    型號： KS-C300 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:34:55 對比

  • 勻膠機(jī)

    Laurell的EDC-650-15B型勻膠機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊，具有先進(jìn)的功能。這款650系列EDC系統(tǒng)將可容納高達(dá)300mm的晶圓和9英寸×9英寸（229m...
    型號： EDC-650-1... 所在地：美國 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:30:17 對比

  • 全自動SCRUBBER清洗機(jī)

    清洗機(jī)可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細(xì)微顆粒污染物去除，實現(xiàn)高效去除。通過大量仿真與工藝試驗相結(jié)合，...
    型號： KS-CF300/... 所在地：沈陽市 參考價： 面議 更新時間：2024/9/6 10:25:43 對比
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