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反應性離子刻蝕系統(tǒng)RIE

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產品型號PlasmaPro 800 RIE

品牌OXFORD/英國牛津

廠商性質經銷商

所在地英國

更新時間:2024-09-04 16:29:58瀏覽次數(shù):288次

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PlasmaPro 800系列是結構緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產級別的批量以及300mm晶圓的工藝。

1.產品概述:

 asmaPro 800系列是結構緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產別的批量以及300mm晶圓的工藝。

2.產品特點

PlasmaPro 800系列是結構緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產別的批量以及300mm晶圓的工藝。PlasmaPro 800系列是結構緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng),該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應離子蝕刻(RIE)工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的晶圓平臺能夠處理量產別的批量以及300mm晶圓的工藝。

3.產品工藝

高性能工藝

準確的襯底溫度控制

準確的工藝控制

成熟的300mm單晶圓失效分析工藝

大型下電 - 低成本

刻蝕終點監(jiān)測 - 可靠性和可維護性俱佳

通過激光干涉儀與/或發(fā)射光譜進行終點監(jiān)測 - 增強刻蝕控制

可選擇帶有4-、8-或12-條氣路的氣柜 - 可提供靈活的工藝和工藝氣體,可以與主機分離,放置在遠端服務區(qū)

近距離耦合渦輪泵 - 提供優(yōu)秀的泵送速度加快氣體的流動速度

數(shù)據(jù)記錄 - 追溯腔室的歷史狀態(tài)以及工藝條件

液體冷卻和/或電加熱電 - 出色的電溫度控制和穩(wěn)定性

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