深圳市矢量科學儀器有限公司

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CMP后清洗機

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號GNP CLEANER-812L

品牌G&P

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地韓國

更新時間：2024-09-05 10:16:24瀏覽次數(shù)：316次

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GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設計緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12")晶圓。

1. 產(chǎn)品概述

適用晶圓尺寸:200mm(8")和300mm(12")

配置:獨立配置4個清洗工位，DIW刀預清洗，2個雙面滾刷清洗，N2吹旋轉漂洗干燥(可選分離式QDR)清潔器尺寸:1,970W 975D 1,380Hmm

電刷尺寸:70(外徑)32(內(nèi)徑)320(長)毫米

預清洗工位:DIW噴霧清洗，工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學：nh4oh（<1%）或DIW

刷型:雙面PVA刷

轉速:<滿量程的±2%范圍30 ~ 300rpm

化學品供應:4個噴嘴和通過刷子

可用化學:2化學[NH4OH]            

化學品流量:滿量程< 1L/min

DI流量:滿量程<5L/min

轉站

旋轉速度:高2500轉/分DIW沖洗/ N2吹

控制工藝:自動上片，自動順序，濕進/干出

程序控制:PC & PC觸摸監(jiān)控，程序可編程，計算機網(wǎng)絡可比


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