深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

原子層沉積ALD

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號Phoenix

品牌Veeco

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地國外

更新時間:2024-09-05 10:02:26瀏覽次數(shù):200次

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價格區(qū)間 面議 應(yīng)用領(lǐng)域 生物產(chǎn)業(yè),電子,電氣
Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過精心設(shè)計,可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)級制造的任何制造環(huán)境中實現(xiàn)高吞吐量和最長的正常運行時間。技術(shù)人員和研究人員依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上實現(xiàn)可重復(fù)、高精度的薄膜沉積。Phoenix®支持多達6條獨立的前驅(qū)體生產(chǎn)線,可根據(jù)您的薄膜需求提供固體、液體或氣體工藝化學(xué)成分。緊湊的占地面積和創(chuàng)新的設(shè)計使Phoenix®成為具有批量生產(chǎn)ALD要求的人們的實用選擇。

Phoenix – 批量生產(chǎn)原子層沉積

1. 生產(chǎn)能力

Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過精心設(shè)計,可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)制造的任何制造環(huán)境中實現(xiàn)高吞吐量和長的正常運行時間。技術(shù)人員和研究人員依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上實現(xiàn)可重復(fù)、高精度的薄膜沉積。Phoenix®支持多達6條獨立的驅(qū)體生產(chǎn)線,可根據(jù)您的薄膜需求提供固體、液體或氣體工藝化學(xué)成分。緊湊的占地面積和創(chuàng)新的設(shè)計使Phoenix®成為具有批量生產(chǎn)ALD要求的人們的實用選擇。

2. 主要功能包括

對工藝參數(shù)(包括溫度、流量和壓力)進行精確的軟件控制,即使在敏感的基材上也能實現(xiàn)無缺陷的涂層

獲得利的 ALD Shield™ 蒸汽捕集器可防止沉積物積聚,并大限度地減少多余的工藝氣體排放到環(huán)境中

大型工藝室可容納 GEN 2.5 襯底、多個晶圓盒和更大的 3D 物體

擁有成本低,啟動和運營成本低

占地面積小,可節(jié)省寶貴的潔凈室空間

標(biāo)準(zhǔn)配方和 ALD 材料

來自技術(shù)團隊和博士科學(xué)家的全球全面支持和服務(wù)

符合 CE、FCC 和 CSA 標(biāo)準(zhǔn),具有許多內(nèi)置安全功能

濺射系統(tǒng)

iTops PVD AlN 濺射系統(tǒng),采用托盤形式,可兼容 2/4/6

卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)

卷對卷薄膜濺射系統(tǒng)裝置在真空狀態(tài)中對PET Film,以ITO或Met

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