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CY-MSH325-II-DCRF-SS-ZD粉末磁控濺射鍍膜儀PX 0
CY-MSH500X-III-DCDCRF-SS三靶磁控濺射鍍膜儀PX 0
CY-MSZ254-I-DC-SS桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀PX 0
CY-MSH325-III-DCDCRF-SS臥式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀PX 0
CY-MSH1000-III-RFRFRF-SS高真空4英寸三靶磁控濺射鍍膜儀PX 0
CY-MSH500X-Ⅳ-DCDCRFRF-SS下置四靶磁控濺射鍍膜儀PX 0
CY-MSZ254-II-DC-SS桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀PX 0
CY-MSZ194-I-DC-SS桌面型單靶直流磁控濺射鍍膜儀PX 0
CY-MSH325-III-DCDCRF-SS分體式高真空三靶磁控濺射鍍膜儀PX 0
CY-MSH325-III-DCDCRF-SS高真空三靶磁控濺射鍍膜儀PX 0
CY-MSZ254-II-DCDC-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀PX 0
CY-MSZ254-II-DCDC-SS桌面型磁控濺射鍍膜儀上置靶槍PX 0
GVC-5000T 高真空多功能鍍膜儀PX 1550
SD溫控型提拉浸漬鍍膜機(jī)PX 3880
英國Ossila旋涂機(jī)/鍍膜機(jī)PX 3996
電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)E-BeamPX 1560
熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)Thermal EvaporationPX 1560
磁控濺射鍍膜機(jī)SputterPX 1560
QBT-E雙腔室超高真空雙傾角蒸鍍系統(tǒng)PX 2387
QBT-E電子束蒸發(fā)鍍膜廠家PX 2387
QBT-E約瑟夫森結(jié)鍍膜設(shè)備PX 2387
QBT-J超高真空鍍膜設(shè)備PX 2387
11427-AB日本filgen碳鍍膜機(jī)涂層系統(tǒng)快速響應(yīng)高性能PX 3745
12151-AB/12151E-AB日本filgen濺射鍍膜機(jī)帶蝕刻模式無熱損傷PX 3745
OPC60A日本進(jìn)口filgen等離子鍍膜機(jī)EVO涂層多功能PX 3745
OPC60A/OPC80T日本Filgen等離子鍍膜機(jī)用于導(dǎo)電性薄膜裝置PX 3745
DST3-T英國VacCoat濺射鍍膜機(jī)三靶渦輪分子泵陰極PX 3745
DST2-TG英國VacCoat手套箱用濺射鍍膜機(jī)熱蒸發(fā)器PX 3745
Desktop Pro鍍膜設(shè)備:桌面型磁控濺射臺-Desktop ProPX 2972
高真空鍍膜機(jī) Leica EM ACE6002PX 1908
customized電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)E-BeamPX 1950
customized熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)Thermal EvaporationPX 1950
customized磁控濺射鍍膜機(jī)SputterPX 1950
CCV系列縱向式Cat-CVD設(shè)備PX 1950
CME-200E/400枚葉式PECVD設(shè)備PX 1950
CC-200/400Load-lock式Plasma CVD設(shè)備PX 1950
CMD系列枚葉式等離子CVD設(shè)備PX 1950
CT機(jī)性能校準(zhǔn)模體PX 2900
QBT-I量子鍍膜設(shè)備PX 2387
QBT-I雙腔室高真空高速蒸鍍系統(tǒng)PX 2387
純化設(shè)備
萃取設(shè)備
實驗室用反應(yīng)設(shè)備
制樣/消解設(shè)備
離心機(jī)
恒溫/加熱/干燥
凈化/清洗/消毒
氣體發(fā)生器
粉碎/研磨設(shè)備
液體處理設(shè)備
攪拌器
振蕩設(shè)備
制冷設(shè)備
混合/乳化設(shè)備
泵
實驗室家具
痕量分析器皿
其它實驗室常用設(shè)備
高真空鍍膜儀
低真空鍍膜機(jī)
VTC-1HD-ZF2高真空磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀
磁控濺射沉積系統(tǒng)
臺式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)
飛越大功率工業(yè)單級旋片真空泵VSV系列電動抽氣泵負(fù)壓鍍膜機(jī)械泵
北儀優(yōu)成TRP-6/12/24/36旋片凍干機(jī)真空泵鍍膜機(jī)實驗腔體機(jī)械泵
飛越VRD-16真空泵VRD8雙級旋片抽氣泵實驗室蒸發(fā)鍍膜機(jī)械泵單級泵
VacTechniche渦輪泵浦濺射手套箱
VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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