進口干法刻蝕機 參考價：面議
太陽能電池單面干法刻蝕機是專業(yè)為晶圓刻蝕設計的干法蝕刻機。這款太陽能電池刻蝕機專為小型試驗線和科學研究機構設計,圍繞一個ADE反應堆建造的.可配備自動裝載機/卸...
等離子體增強原子層沉積系統(tǒng) 參考價：面議
等離子體增強原子層沉積系統(tǒng)采用*大的腔室和等離子ALD模塊,獲得**的原子層沉積效果。
ALD系統(tǒng),原子層沉積設備 參考價：面議
ALD系統(tǒng)AT410提供了用于3D樣品制備的共形導電薄膜解決方案，同時還提供了目前使用濺射/蒸發(fā)生長的傳統(tǒng)2D涂層。
KPFM-SKPM開爾文探針力顯微鏡 參考價：面議
這款KPFM開爾文探針力顯微鏡,SKPM掃描開爾文探針力顯微鏡(Kelvin Probe Force Microscopy)可以訪問從50mm到350mm的樣品...
表面光電壓譜儀 參考價：面議
表面光電壓譜儀是專業(yè)為研究光敏材料（如有機半導體、太陽能電池或光敏染料）設計的表面光電壓儀器,Surface Photovoltage.
掃描開爾文探針系統(tǒng) 參考價：面議
大面積掃描開爾文探針系統(tǒng)能夠在垂直方向移動開爾文探針實現(xiàn)電動控制開爾文探針與樣品的距離。 樣品安裝到真空吸盤上，真空吸盤可帶著樣品移動150x150mm位移，從...
單點開爾文探針系統(tǒng) 參考價：面議
我們的單點開爾文探針系統(tǒng)采用非零信號檢測方法對材料的功函數(shù)/費米能級進行非常高質(zhì)量的測量。
超高真空開爾文探針系統(tǒng) 參考價：面議
超高真空開爾文探針系統(tǒng)幫助用戶充分利用真空下的工作功能和接觸電位差（CPD）測量。每個系統(tǒng)都配有高質(zhì)量的手動或電動轉(zhuǎn)換器，可實現(xiàn)可靠和準確的針尖到樣品定位，跟蹤...
開爾文探針系統(tǒng),Kelvin Probe 參考價：面議
開爾文探針系統(tǒng)Kelvin Probe可用于光電化學中,精確測量不同半導體和導電材料的功函數(shù)，精度高。表面態(tài)在樣品的電荷轉(zhuǎn)移和功函數(shù)變化中起著重要作用。
低溫UHV掃描探針顯微鏡 參考價：面議
這款低溫UHV掃描探針顯微鏡是超高真空室內(nèi)應用設計的高真空低溫SPM掃描探針顯微鏡。樣品預處理和探針清洗可在超高真空室中進行，使超低溫STM/AFM能夠進行原子...
超低溫磁場掃描隧道顯微鏡 參考價：1500000
超低溫磁場掃描隧道顯微鏡是超低溫高磁場表面物理研究設計的STM掃描隧道顯微鏡。廣泛應用于表面科學研究的前沿領域，實現(xiàn)了低溫和高磁場的掃描隧道顯微鏡商用化
超高真空超低溫四探針SPM顯微鏡 參考價：面議
這超高真空超低溫四探針SPM是超高真空室內(nèi)應用設計的UHV極低溫多探針掃描探針顯微鏡，得益于多探針SPM優(yōu)異性能,這款產(chǎn)品可用于納米技術
低溫高真空針尖增強拉曼光譜系統(tǒng) 參考價：面議
低溫高真空針尖增強拉曼光譜系統(tǒng)采用一種低溫單分子成像方法,在低溫高真空條件下，可實現(xiàn)亞納米級拉曼光譜成像，提高信噪比和靈敏度
超高真空極低溫強磁場掃描隧道顯微鏡 參考價：1500000
超高真空極低溫強磁場掃描隧道顯微鏡是高性能掃描隧道顯微鏡應用于前沿表面科學研究的理想工具,實現(xiàn)了低溫和強磁場。基問可達40mK （typecal 30 mK），...
聚焦離子束蝕刻系統(tǒng) 參考價：1200000
這套聚焦離子束蝕刻系統(tǒng)是一種超高真空UHV條件多功能FIB系統(tǒng),既可以配置為掃描電子顯微鏡SEM,也可以配置為結合SEM和高性能聚焦離子束FIB的雙束平臺。
高壓濺射PVD物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價：550000
高壓PVD系統(tǒng)配置適合在晶圓濺射金屬膜,磁性材料,多組分氧化物,得益于它靈活的配置和特殊的晶圓加熱器設計,PVD可以在溫度最高900℃的襯底上濺射金屬膜層和磁性...
磁控濺射物理氣相沉積PVD系統(tǒng) 參考價：800000
磁控濺射物理氣相沉積是多功能高壓PVD系統(tǒng),用于磁控濺射和多組分薄膜的熱蒸發(fā)，用于批量晶圓物理氣相沉積加工.磁控濺射物理氣相沉積可在加熱至700℃的晶圓上濺射多...
電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng) 參考價：1200000
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)是按照“從實驗室到工廠"的方法設計的電子束鍍膜蒸發(fā)系統(tǒng),既適用于密集的研發(fā)活動，也適用于中試生產(chǎn)。
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：1000000
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)是采用PECVD技術專業(yè)為介質(zhì)膜鍍膜設計的化學氣相沉積設備。
晶圓真空氧化退火熱處理系統(tǒng) 參考價：面議
這款半導體晶圓熱處理系統(tǒng)是為半導體晶圓在可控氣體、真空、氧化或還原氣氛中的晶圓高溫處理系統(tǒng)，可對晶圓真空退火，氧氣退火處理。 鋁室的特殊設計允許在*溫度（高達1...
晶圓熱退火爐 參考價：面議
這款晶圓熱退火爐是半導體晶片惰性氣氛快速熱退火系統(tǒng),適合晶圓的最大直徑為100mm,晶圓通過上部快速檢修門手動裝入腔室，并放置在熱補償石墨臺上。加熱器系統(tǒng)基于線...
COVAP物理氣相沉積系統(tǒng),PVD系統(tǒng) 參考價：面議
COVAP物理氣相沉積系統(tǒng)為許多工藝應用提供緊湊、經(jīng)濟、但仍然穩(wěn)健的PVD解決方案。
物理氣相沉積平臺PVD,濺射,電子束蒸發(fā) 參考價：面議
多功能物理氣相沉積平臺可搭載濺射,熱蒸發(fā),電子束蒸發(fā),等離子體和離子束處理功能模塊,是多功能PVD系統(tǒng)。允許更大的腔室投擲距離，并能夠適應更多工藝增強。
磁控濺射沉積系統(tǒng) 參考價：800000
磁控濺射系統(tǒng)MagSput™是下一代磁控濺射沉積系統(tǒng)，實用性腔,可擴展性高,且高度可靠,非常適合磁控濺射鍍膜科學研究。磁控濺射系統(tǒng)可定制。該腔室可設...
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