高精密光學(xué)少子壽命測(cè)試儀 返回列表頁(yè)

高精度少子壽命測(cè)試是評(píng)估半導(dǎo)體材料（如硅、鍺）中少數(shù)載流子復(fù)合速率的關(guān)鍵技術(shù)，廣泛應(yīng)用于太陽(yáng)能電池、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。以下是關(guān)鍵信息：

定義與參數(shù)

高精度少子壽命指少數(shù)載流子（電子或空穴）在半導(dǎo)體材料中存活的平均時(shí)間，反映材料缺陷（如重金屬污染、表面復(fù)合效應(yīng)）對(duì)載流子遷移率的影響。核心參數(shù)包括：

• ?體壽命?（τ_bulk）：材料內(nèi)部的平均壽命

• ?表面復(fù)合速率?（S）：材料表面載流子復(fù)合速度

• ?貫穿深度?：測(cè)試信號(hào)穿透材料的深度，高精度儀器可達(dá)500微米以上 ?
  

測(cè)試技術(shù)

高精度測(cè)試需結(jié)合多種技術(shù)：

1. ?準(zhǔn)穩(wěn)態(tài)光電導(dǎo)法?（QSSPC）：通過(guò)光脈沖激發(fā)載流子，監(jiān)測(cè)其濃度變化計(jì)算壽命，覆蓋100ns至10ms壽命范圍 ?
   

2. ?高頻光電導(dǎo)衰減法?（HF-PCD）：采用高頻載波信號(hào)檢測(cè)微波反射相位變化，推導(dǎo)載流子遷移率，檢測(cè)速度達(dá)30ms/數(shù)據(jù)點(diǎn) ?
   

3. ?微波光電導(dǎo)法?（MDP）：適用于低阻硅料（電阻率>0.1Ω·cm），解決傳統(tǒng)方法無(wú)法檢測(cè)低阻材料的缺陷 ?
   

應(yīng)用場(chǎng)景

1. ?太陽(yáng)能電池制造?：評(píng)估

   磷擴(kuò)散工藝

   均勻性，開(kāi)路電壓每降低10mV對(duì)應(yīng)壽命減少約30μs ?
   

2. ?半導(dǎo)體生產(chǎn)?：監(jiān)控硅棒切片、擴(kuò)散工藝參數(shù)，優(yōu)化制造參數(shù)以減少缺陷 ?
   

3. ?材料質(zhì)量控制?：檢測(cè)硅芯、檢磷棒等不規(guī)則材料的體壽命與表面復(fù)合速率 ?
   

儀器特性

高精度儀器需滿足：

• 支持非接觸式測(cè)量，避免傳統(tǒng)接觸法引入的參數(shù)波動(dòng) ?
  

• 動(dòng)態(tài)曲線監(jiān)控功能，實(shí)時(shí)識(shí)別陷阱效應(yīng)和表面復(fù)合缺陷 ?
  

• 擴(kuò)展測(cè)試范圍至低阻硅料（電阻率可達(dá)0.01Ω·cm） ?

• 通過(guò)控制復(fù)合中心濃度可調(diào)節(jié)少子壽命：去除雜質(zhì)缺陷可延長(zhǎng)壽命，摻入金、鉑或電子輻照可縮短壽命。測(cè)試方法包括準(zhǔn)穩(wěn)態(tài)光電導(dǎo)（QSSPC）和瞬態(tài)模式，前者適用于低壽命樣品，后者用于高壽命樣品。