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化合物半導體沉積系統(tǒng)
化合物半導體沉積系統(tǒng)AIX G5 WW C“下一代碳化硅電力電子器件的最佳性能，以應對全球大趨勢"高吞吐量批量外延與單晶圓控制 - 兩全其美。
型號： AIX G5 WW... 所在地：德國參考價：面議更新時間：2024/8/13 11:12:18 對比

半導體沉積
等離子增強化學氣相沉積
PlasmaPro 100 Nano用于生長1D / 2D納米材料和異質(zhì)結(jié)構(gòu)的CVD / PECVD工具。 PlasmaPro 100 Nano通過在線催化劑活...
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 11:13:24 對比

薄膜生長
原子層沉積（ALD）
FlexAL系統(tǒng)可提供遠程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結(jié)構(gòu)和器件的工程設計提供了一系列新的靈活性和可行性。ALD產(chǎn)品家族涵蓋的系列設備可以滿足學術(shù)界、...
型號： FlexAL 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 11:04:26 對比

原子層沉積（ALD）
原子層沉積研究設備
TFS 500 是薄膜鍍膜應用的理想選擇。作為第一個 Beneq 反應器模型，已被證明是用于深入研究原子層沉積研究和穩(wěn)健批處理的多功能工具。TFS 500 是多...
型號： TFS 500 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 11:03:34 對比

原子層沉積
超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜
超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜Beneq C2R 是我們集群兼容設備系列的空間 ALD 成員。Beneq C2R 將等離子體增強原子層沉積（PEALD）工...
型號：貝內(nèi)克 C2R 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 11:03:18 對比

空間原子層沉積鍍膜
原子層沉積
市場和應用用于電池、太陽能和柔性電子產(chǎn)品的功能性原子層沉積涂層。 Genesis ALD 是涂布任何卷筒格式基材以及多種功能應用的理想選擇。各種類型鋰離子和固態(tài)...
型號：捷尼賽思所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 11:03:02 對比

原子層沉積
PEALD 系統(tǒng)
SENTECH True Remote CCP 源可在低溫下對敏感基材和層進行均勻和保形涂層。在樣品表面提供高通量的反應性氣體種類，而沒有紫外線輻射或離子轟擊。...
型號： SI PEALD 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:25:24 對比

PEALD
PEARD系統(tǒng)
SENTECH SILAYO是一種用于光學鍍膜的等離子體增強原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)，擴展了SENTECH PECVD和ALD產(chǎn)品組合。SENTECH SI...
型號： SENTECH S... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:25:06 對比

原子層沉積ALD
ICPCVD
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設計可實現(xiàn)...
型號： PlasmaPro... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:13:43 對比

ICPCVD 刻蝕沉積
ICPECVD 系統(tǒng)
電感耦合等離子體（ICP）沉積系統(tǒng)，SENTECH SI 500 D 用于介電膜的高密度、低離子能量和低壓等離子體沉積，以及用于鈍化層的低損傷、低溫沉積。S...
型號： SI 500 D 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2024/8/12 10:09:28 對比

電感耦合等離子體（ICP）沉積系統(tǒng)

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