深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

無(wú)掩模直接成像儀

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)VPG 300

品牌STELLA/海德堡儀器

廠(chǎng)商性質(zhì)經(jīng)銷(xiāo)商

所在地深圳市

更新時(shí)間:2024-08-27 10:34:35瀏覽次數(shù):287次

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VPG 300 DI 無(wú)掩模直接成像儀是一款體積圖案發(fā)生器,專(zhuān)為在 i 線(xiàn)光刻膠中直接寫(xiě)入高分辨率微結(jié)構(gòu)而設(shè)計(jì)。它源自掩模制作工具,具有所有先進(jìn)的 VPG 系統(tǒng)組件,能夠以最高的精度和準(zhǔn)確度進(jìn)行書(shū)寫(xiě)。最大寫(xiě)入?yún)^(qū)域覆蓋 300 mm 晶圓。
寫(xiě)入模式第二
寫(xiě)作表現(xiàn)

最小特征尺寸 [μm]0.50.8
最小行數(shù)和間距 [μm]0.81.2
地址網(wǎng)格 [nm]48
邊緣粗糙度 [3σ, nm]3040
CD均勻度 [3σ, nm]5060
2層對(duì)齊(全局)[nm]100130
寫(xiě)入速度 [mm2/分鐘]340*1020*
*快速模式:680 和 2056 mm2/min,具有相似的性能,但沒(méi)有規(guī)格

100 x 100 mm 的曝光時(shí)間2面積 [min]3917
系統(tǒng)特點(diǎn)

光源355 nm 的高功率 DPSS 激光器
最大基板尺寸和寫(xiě)入面積300 x 300 毫米2
基板厚度0 至 12 mm (可根據(jù)要求提供其他厚度)
最大曝光面積300 x 300 毫米2
自動(dòng)對(duì)焦實(shí)時(shí)自動(dòng)對(duì)焦系統(tǒng)(光學(xué)和氣動(dòng))
自動(dòng)對(duì)焦補(bǔ)償范圍高達(dá) 80 μm
流量箱(閉環(huán))溫控環(huán)境試驗(yàn)箱
對(duì)準(zhǔn)和計(jì)量用于測(cè)量和對(duì)準(zhǔn)的相機(jī)系統(tǒng)和軟件包
其他功能和選項(xiàng)100、150、200 和 300 mm 晶圓的全自動(dòng)處理和預(yù)對(duì)準(zhǔn)。光學(xué)邊緣檢測(cè)、頂部對(duì)準(zhǔn)以及可選的紅外和背面對(duì)準(zhǔn)。Zerodur® 載物臺(tái)和高分辨率差分干涉儀



系統(tǒng)尺寸


系統(tǒng) / 電子機(jī)架
寬度 [mm]2605 / 800
深度 [mm]1652 / 650
高度 [mm]2102 / 1800
重量 [kg]3550 / 180



安裝要求

電氣400 VAC ± 5 %, 50/60 Hz, 16 A, 3 相
壓縮空氣6 - 10 巴





有掩膜光刻機(jī)

1.手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)有掩膜光刻機(jī)$r$n2.高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻,

無(wú)掩膜/激光直寫(xiě)光刻機(jī)

無(wú)掩膜/激光直寫(xiě)光刻機(jī) 參數(shù):1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統(tǒng)

電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù):$r$n1.最小線(xiàn)寬≤8nm 光柵周期

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